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干涉式橢圓儀應用於晶圓表面二氧化矽薄膜厚度量測技術之研究
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邱日強
干涉式橢圓儀應用於晶圓表面二氧化矽薄膜厚度量測技術之研究
紀錄類型:
書目-語言資料,印刷品 : 單行本
作者:
邱日強,
其他作者:
鄧恢綱,
出版地:
[南投縣]
出版者:
南開科技大學電機與資訊工程研究所;
出版年:
民98[2009]
面頁冊數:
47面 : 圖,表 ; 31公分+1張光碟
電子資源:
https://hdl.handle.net/11296/97y63r
電子資源:
https://hdl.handle.net/11296/pp9427
附註:
參考書目: 面47
附註:
指導教授:鄧恢綱
摘要註:
本論文是利用線偏振光入射至介質表面(SiO2/Si),造成反射光的偏振型態改變的特性所發展出的測量技術橢圓偏振儀。並藉由反射光通過五種不同角度下的光學元件(四分之一波片),最後再由電荷耦合元件(CCD)擷取出五組不同的影像,帶入所推導理論並計算出相對應二維橢圓參數Δ與Ψ,最終得到檢測片(SiO2)薄膜的厚度。
干涉式橢圓儀應用於晶圓表面二氧化矽薄膜厚度量測技術之研究
邱, 日強
干涉式橢圓儀應用於晶圓表面二氧化矽薄膜厚度量測技術之研究
/ 邱日強 - [南投縣] : 南開科技大學電機與資訊工程研究所, 民98[2009]. - 47面 ; 圖,表 ; 31公分.
參考書目: 面47指導教授:鄧恢綱.
鄧, 恢綱
干涉式橢圓儀應用於晶圓表面二氧化矽薄膜厚度量測技術之研究
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碩士論文--南開科技大學電機與資訊工程研究所
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本論文是利用線偏振光入射至介質表面(SiO2/Si),造成反射光的偏振型態改變的特性所發展出的測量技術橢圓偏振儀。並藉由反射光通過五種不同角度下的光學元件(四分之一波片),最後再由電荷耦合元件(CCD)擷取出五組不同的影像,帶入所推導理論並計算出相對應二維橢圓參數Δ與Ψ,最終得到檢測片(SiO2)薄膜的厚度。
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A study of interferometric ellipsometer for measuring the thickness of SiO2 thin film on Si substrate.
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館藏地:
全部
六樓師生著作區 (6th Floor-Students & Faculty's Works)
七樓閉架書庫(7th Floor-Closed Stacks)
出版年:
卷號:
館藏
3 筆 • 頁數 1 •
1
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付属資料
T00085
六樓師生著作區 (6th Floor-Students & Faculty's Works)
不外借
本校學位論文
T 000 7761 98
一般(Normal)
在籍
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1張光碟
T00086
七樓閉架書庫(7th Floor-Closed Stacks)
不外借
本校學位論文
T 000 7761 98 c.2
一般(Normal)
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七樓閉架書庫(7th Floor-Closed Stacks)
不外借
本校學位論文
T 000 7761 98 c.3
一般(Normal)
在籍
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3 レコード • ページ 1 •
1
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