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干涉式橢圓儀應用於晶圓表面二氧化矽薄膜厚度量測技術之研究

邱日強

干涉式橢圓儀應用於晶圓表面二氧化矽薄膜厚度量測技術之研究

Record Type:	Language materials, printed : monographic
Author:	邱日強,
Secondary Intellectual Responsibility:	鄧恢綱,
Place of Publication:	[南投縣]
Published:	南開科技大學電機與資訊工程研究所;
Year of Publication:	民98[2009]
Description:	47面 : 圖,表 ; 31公分+1張光碟
Online resource:	https://hdl.handle.net/11296/97y63r
Online resource:	https://hdl.handle.net/11296/pp9427
Notes:	參考書目: 面47
Notes:	指導教授:鄧恢綱
Summary:	本論文是利用線偏振光入射至介質表面(SiO2/Si)，造成反射光的偏振型態改變的特性所發展出的測量技術橢圓偏振儀。並藉由反射光通過五種不同角度下的光學元件(四分之一波片)，最後再由電荷耦合元件(CCD)擷取出五組不同的影像，帶入所推導理論並計算出相對應二維橢圓參數Δ與Ψ，最終得到檢測片(SiO2)薄膜的厚度。

干涉式橢圓儀應用於晶圓表面二氧化矽薄膜厚度量測技術之研究
邱, 日強

干涉式橢圓儀應用於晶圓表面二氧化矽薄膜厚度量測技術之研究 / 邱日強 - [南投縣] : 南開科技大學電機與資訊工程研究所, 民98[2009]. - 47面 ; 圖,表 ; 31公分.
參考書目: 面47指導教授:鄧恢綱.

鄧, 恢綱

干涉式橢圓儀應用於晶圓表面二氧化矽薄膜厚度量測技術之研究
LDR:01360nam0 2200265 450 001 121295
005 20230712151502.0
009 00140189
010 0 $b 精裝
100 $a 20091022y2009 m y0chiy08 e
101 0 $a chi
102 $a tw
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200 1 $a 干涉式橢圓儀應用於晶圓表面二氧化矽薄膜厚度量測技術之研究 $f 邱日強
210 $a [南投縣] $c 南開科技大學電機與資訊工程研究所 $d 民98[2009]
215 0 $a 47面 $c 圖,表 $d 31公分 $e 1張光碟
300 $a 參考書目: 面47
300 $a 指導教授:鄧恢綱
328 $a 碩士論文--南開科技大學電機與資訊工程研究所
330 $a 本論文是利用線偏振光入射至介質表面(SiO2/Si)，造成反射光的偏振型態改變的特性所發展出的測量技術橢圓偏振儀。並藉由反射光通過五種不同角度下的光學元件(四分之一波片)，最後再由電荷耦合元件(CCD)擷取出五組不同的影像，帶入所推導理論並計算出相對應二維橢圓參數Δ與Ψ，最終得到檢測片(SiO2)薄膜的厚度。
510 1 $a A study of interferometric ellipsometer for measuring the thickness of SiO2 thin film on Si substrate. $z eng
681 $a 000 $b 7761
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856 $u https://hdl.handle.net/11296/97y63r
856 $u https://hdl.handle.net/11296/pp9427