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光學薄膜製鍍技術及應用

~

李正中

光學薄膜製鍍技術及應用

紀錄類型:	書目-語言資料,印刷品 : 單行本
作者:	衛泰宇,
其他作者:	李正中,
出版地:	台北市
出版者:	行政院國科會;
出版年:	民87
面頁冊數:	73面 : 圖 ; 21公分
集叢名:	光電科技資料叢書27
標題:	光學工程 -
標題:	化學工程 -

光學薄膜製鍍技術及應用
衛, 泰宇

光學薄膜製鍍技術及應用 / 衛泰宇,李正中著 - 台北市 : 行政院國科會, 民87. - 73面 ; 圖 ; 21公分. - (光電科技資料叢書 ; 27).
光學工程化學工程

李, 正中

光學薄膜製鍍技術及應用
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200 1 $a 光學薄膜製鍍技術及應用 $f 衛泰宇,李正中著
210 $a 台北市 $c 行政院國科會 $d 民87
215 0 $a 73面 $c 圖 $d 21公分
225 1 $a 光電科技資料叢書 $v 27
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606 $a 化學工程 $2 csh $3 1314
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館藏地: 出版年: 卷號:

館藏

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典藏地名稱

館藏流通類別

083083

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圖書

468 2153 87

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