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本文主要針對氫化矽薄膜介觀力學行為和耐高溫壓力傳感器這兩個問題展開了理論與實驗的研究。對射頻等離子體增強化學氣相沉積（RF-PECVD）系統進行了改造，製備了氫化矽薄膜，成功地進行了磷或硼的摻雜。用拉曼譜揭示了氫化矽薄膜的晶粒平均大小和晶態比；用橢偏儀測試了所製備薄膜的厚度；用X射線衍射譜對薄膜微結構和材料性能的進行了比較。以相同的工藝在玻璃和單晶矽襯底上製備了本征或摻磷（硼）的納米矽薄膜，對不同襯底上納米矽薄膜進行了對比研究。基於高靈敏度納米矽薄膜壓力傳感器的研究，進行了耐高溫壓力傳感器的研究。 |