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微電子製造科學原理與工程技術 = = Science and engin...

坎貝爾 (1954-)

微電子製造科學原理與工程技術 = = Science and engineering of microelectronic fabrication

紀錄類型:	書目-電子資源 : 單行本
並列題名:	= Science and engineering of microelectronic fabrication
作者:	坎貝爾1954-
其他作者:	曾瑩
出版地:	北京
出版者:	電子工業出版社;
出版年:	2004
版本:	第2版
集叢名:	國外電子與通信教材系列
標題:	微電子技術 - 教材 -
電子資源:	中華數字書苑--點擊此處查看電子書全文
附註:	需要下載並安裝APABI Reader軟件閱讀電子圖書
摘要註:	本書系統地介紹了微電子製造科學原理與工程技術，覆蓋了集成電路製造所涉及的所有基本單項工藝，包括光刻、等離子體和反應離子刻蝕、離子注入、擴散、氧化、蒸發、氣相外延生長、濺射和化學氣相澱積等。對每一種單項工藝，不僅介紹了它的物理和化學原理，還描述了用於集成電路製造的工藝設備。本書還介紹了各種先進的工藝技術，如快速熱處理、下一代光刻、分子束外延和金屬有機物化學氣相澱積等。在此基礎上本書討論了如何將這些單項工藝集成為各種常見的集成電路工藝技術，如 CMOS 技術、雙極型技術和砷化鎵技術，還介紹了微電子製造的新領域，即微機械電子系統及其工藝技術。
ISBN:	7505383132

微電子製造科學原理與工程技術 = = Science and engineering of microelectronic fabrication
坎貝爾

微電子製造科學原理與工程技術 = = Science and engineering of microelectronic fabrication [電子資源] / (美) 坎貝爾著 ; 曾瑩 ... [等]譯 - 第2版. - 北京 : 電子工業出版社, 2004. - (國外電子與通信教材系列).
需要下載並安裝APABI Reader軟件閱讀電子圖書.
ISBN 7505383132
微電子技術 -- 教材

曾瑩

微電子製造科學原理與工程技術 = = Science and engineering of microelectronic fabrication
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330 $a 本書系統地介紹了微電子製造科學原理與工程技術，覆蓋了集成電路製造所涉及的所有基本單項工藝，包括光刻、等離子體和反應離子刻蝕、離子注入、擴散、氧化、蒸發、氣相外延生長、濺射和化學氣相澱積等。對每一種單項工藝，不僅介紹了它的物理和化學原理，還描述了用於集成電路製造的工藝設備。本書還介紹了各種先進的工藝技術，如快速熱處理、下一代光刻、分子束外延和金屬有機物化學氣相澱積等。在此基礎上本書討論了如何將這些單項工藝集成為各種常見的集成電路工藝技術，如 CMOS 技術、雙極型技術和砷化鎵技術，還介紹了微電子製造的新領域，即微機械電子系統及其工藝技術。
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