南開科技大學圖書館 |

Language: 繁體中文

說明(常見問題)

南開科技大學

圖書館首頁

編目中圖書申請

登入

回首頁

切換: 標籤 | MARC模式 | ISBD

以新穎製程製作半橢圓微透鏡陣列 = The new fabricatio...

洪仕育

以新穎製程製作半橢圓微透鏡陣列 = The new fabrication methods for semiellipsoid microlens array

紀錄類型:	書目-語言資料,印刷品 : 單行本
並列題名:	The new fabrication methods for semiellipsoid microlens array
作者:	連朕劼,
其他作者:	洪仕育,
出版地:	[南投縣]
出版者:	南開科技大學車輛與機電產業研究所;
出版年:	民101[2012]
面頁冊數:	9,48葉 : 圖,表 ; 31公分+1張光碟
標題:	光耦合效率
標題:	Optical coupling efficiency
電子資源:	http://handle.ncl.edu.tw/11296/ndltd/06228231281609089979
附註:	指導教授: 洪仕育
附註:	參考書目: 葉47-48
摘要註:	半橢圓微透鏡放置在單模光纖端面以提高雷射二極體其光耦合效率，半橢圓微透鏡允許增加光點尺寸以及數值孔徑，可以實現低損耗、高裝配偏移量誤差容忍度與較低的製作成本。本研究是以兩種新的製程製作半橢圓微透鏡，其中近接式曝光製程是在微影過程中利用控制曝光間距來製作出半橢圓微透鏡，另一種製程法則是於晶圓上製作銅基座，以對位曝光法式二次曝光，顯影之後獲得橢圓形光阻柱形成於基座上，在光阻完全熱熔之後，利用銅基座改變液態光阻與基座之間的接觸面積與接觸型態，進而改變液態光阻的表面張力來獲得理想底面形狀的半橢圓微透鏡。在製作過程中以近接式曝光可以精確控制半橢圓微透鏡的曲率半徑比，舉離法則可以穩定控制半橢圓微透鏡的底面形狀。近接式曝光法根據能預測光纖耦合效率的理論模型，結合田口方法得到一組最佳化的幾何參數，讓光纖耦合效率得到明顯的改善與提升。舉離法則是以橄欖球模型體積近似法，可準確預估某一高度的半橢圓微透鏡所需要的橢圓光阻柱厚度，製作出高度較

以新穎製程製作半橢圓微透鏡陣列 = The new fabrication methods for semiellipsoid microlens array
連, 朕劼

以新穎製程製作半橢圓微透鏡陣列 = The new fabrication methods for semiellipsoid microlens array / 連朕劼 - [南投縣] : 南開科技大學車輛與機電產業研究所, 民101[2012]. - 9,48葉 ; 圖,表 ; 31公分.
指導教授: 洪仕育參考書目: 葉47-48.
光耦合效率Optical coupling efficiency

洪, 仕育

以新穎製程製作半橢圓微透鏡陣列 = The new fabrication methods for semiellipsoid microlens array
LDR:02384pam0 2200289 450 001 125461
005 20150109104505.0
009 00146521
010 0 $b 精裝
099 $a 100NKUT7162010
100 $a 20120814y2012 k y0chiy08 e
101 0 $a chi
102 $a tw
105 $a ak am 000yy
200 1 $a 以新穎製程製作半橢圓微透鏡陣列 $d The new fabrication methods for semiellipsoid microlens array $f 連朕劼 $z eng
210 $a [南投縣] $c 南開科技大學車輛與機電產業研究所 $d 民101[2012]
215 0 $a 9,48葉 $c 圖,表 $d 31公分 $e 1張光碟
300 $a 指導教授: 洪仕育
300 $a 參考書目: 葉47-48
328 $a 碩士論文--南開科技大學車輛與機電產業研究所
330 $a 半橢圓微透鏡放置在單模光纖端面以提高雷射二極體其光耦合效率，半橢圓微透鏡允許增加光點尺寸以及數值孔徑，可以實現低損耗、高裝配偏移量誤差容忍度與較低的製作成本。本研究是以兩種新的製程製作半橢圓微透鏡，其中近接式曝光製程是在微影過程中利用控制曝光間距來製作出半橢圓微透鏡，另一種製程法則是於晶圓上製作銅基座，以對位曝光法式二次曝光，顯影之後獲得橢圓形光阻柱形成於基座上，在光阻完全熱熔之後，利用銅基座改變液態光阻與基座之間的接觸面積與接觸型態，進而改變液態光阻的表面張力來獲得理想底面形狀的半橢圓微透鏡。在製作過程中以近接式曝光可以精確控制半橢圓微透鏡的曲率半徑比，舉離法則可以穩定控制半橢圓微透鏡的底面形狀。近接式曝光法根據能預測光纖耦合效率的理論模型，結合田口方法得到一組最佳化的幾何參數，讓光纖耦合效率得到明顯的改善與提升。舉離法則是以橄欖球模型體積近似法，可準確預估某一高度的半橢圓微透鏡所需要的橢圓光阻柱厚度，製作出高度較
510 1 $a The New Fabrication Methods For Semiellipsoid Microlens Array $z eng
610 # 0 $a 光耦合效率 $a 近接式曝光 $a 田口方法 $a 舉離法 $a 對位曝光
610 # 1 $a Optical coupling efficiency $a UV proximity printing $a Taguchi method $a Lift-off $a Alignment exposure processes
681 $a 000 $b 3574
700 1 $a 連 $b 朕劼 $3 138643
702 1 $a 洪 $b 仕育 $3 80002
801 0 $a tw $b 國圖 $c 20120814 $g CCR
801 1 $a tw $b 國圖 $c 20120814 $g CCR
856 # # $u http://handle.ncl.edu.tw/11296/ndltd/06228231281609089979